81. Plasma kinetic theory
پدیدآورنده: Swanson, D. G. )Donald Gary(
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه الزهراء (س) (تهران)
موضوع: ، Plasma dynamics,، Kinetic theory of gases
رده :
QC
718
.
5
.
T5
S93
2008
82. Plasma kinetic theory
پدیدآورنده: / D.G. Swanson
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Kinetic theory of gases
رده :
QC718
.
5
.
T5S93
2008
83. Plasma physics and magnetofluid-mechanics
پدیدآورنده: Cambel, Ali Bulent
کتابخانه: کتابخانه مرکزی دانشگاه صنعتی امیرکبیر (تهران)
موضوع: Plasma )Ionized gases( , Magnetohydro dynamics
رده :
QC
718
.
C3
84. Plasma processes and plasma kinetics
پدیدآورنده: / Boris M. Smirnov
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma engineering - Problems, exercises, etc,Plasma (Ionized gases) - Problems, exercises, etc,Plasma dynamics - Problems, exercises, etc
رده :
TA2020
.
S67
2007
85. Principles of Magnetoplasma dynamics
پدیدآورنده: Woods, L. C.)Leslie Colin(
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (تهران)
موضوع: ، Plasma dynamics,، Gases, Kinetic theory of,، Thermodynamics,، Fluid dynamics
رده :
QC
718
.
5
.
D9
.
W66
1987
86. Principles of Magnetoplasma dynamics
پدیدآورنده: / L.C. Woods
کتابخانه: کتابخانه پرديس 2 دانشکده‌های فنی دانشگاه تهران (تهران)
موضوع: Plasma dynamics,Kinetic theory of gases,Thermodynamics,Fluid dynamics
رده :
QC
718
.
5
.
D9W66
1987
87. Principles of magnetoplasma dynamics
پدیدآورنده: Woods, Leslie Colin
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع: ، Plasma dynamics,، Kinetic theory of gases,، Thermodynamics,، Fluid dynamics
رده :
QC
718
.
5
.
D9
W66
1987
88. Principles of magnetoplasma dynamics
پدیدآورنده: Woods, L. C.)Leslie Colin(
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اسناد دانشگاه شهید باهنر کرمان (کرمان)
موضوع: ، Plasma dynamics,، Gases, Kinetic theory of,، Thermodynamics,، Fluid dynamics
رده :
QC
718
.
5
.
D9
W66
1987
89. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
1994
90. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
91. Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدیدآورنده: Lieberman, M. A. ) Michael A.(, Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه و مركز اسناد دانشگاه كردستان (کردستان)
موضوع: ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9
L54
]
CD
[
92. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A.) Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry
۳ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
93. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
94. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
95. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman and Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه پرديس 2 دانشکده‌های فنی دانشگاه تهران (تهران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films ــ Surfaces.,Plasma etching ــ Surfaces.,Plasma chemistry ــ Industrial applications.
رده :
QC
718
.
5
.
D9L54
2005
96. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenb
کتابخانه: کتابخانه پژوهشگاه دانشهای بنیادی (تهران)
موضوع: ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9L53
2005
97. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه صنعتی خواجه نصير الدين طوسى (تهران)
موضوع: ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
98. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه پردیس علوم (دانشگاه تهران) (تهران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films -- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
1994
99. Principles of plasma mechanics
پدیدآورنده: / Bishwanath Chakraborty
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Plasma (Ionized gases),Plasma dynamics
رده :
QC718
.
C37
2003
100. Principles of plasma mechanics
پدیدآورنده: Bishwanath Chakraborty
کتابخانه: کتابخانه مرکزی دانشگاه ولی عصر(عج) رفسنجان (کرمان)
موضوع: Plasma)ionized gases(,plasma dynamics
رده :
QC
718
.
C37
1990
